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高能量脉冲式磁控溅射技术

高能量脉冲式磁控溅射技术是新型磁控溅射系统。电源在镀层过程中相当重要。此技术结合「高能量」和「脉冲式」两大特徵放电,在少于两微秒的时间内发出强大能量,犹如闪电现象。由于放电过程中释放大量离子,消除镀膜内应力,因此可以在无损产品或工件表面的情况下,製成厚离子镀层。这种镀层方式可以提高离化率,改善涂层在产品表面的附着力。

此技术能超越传统磁控溅射方法,製作高质量的厚离子镀层。另外,此技术有利增加离子密度,加强镀层与底材之间的连接,从而减低产品表面粗糙度。

透过此技术製作镀层能有效利用等离子体,控制涂层结构,提升耐腐蚀性及表面光洁度。其他应用范畴包括:为结构複杂的几何工件均匀添加涂层、增强功能性部件的耐磨能力并减少替换次数、以及保持装饰产品的外观及耐用度。

优点
  • 耐腐蚀性强
  • 耐磨能力高、减低工件替换次数
  • 表面光洁
  • 厚离子镀层
用途
  • 功能部件
  • 装饰镀层
  • 金属手机壳
  • 模具
  • 手錶
等离子表面处理适用于高档产品,如眼镜框,手錶錶带等。
等离子表面处理适用于高档产品,如眼镜框,手錶錶带等。
高能量脉冲式磁控溅射技术
高能量脉冲式磁控溅射技术